辉光放电磁控溅射靶材利用率和刻蚀均匀性方法研究与进展

摘要：

磁控溅射靶表面磁场的非均匀分布使靶的溅射性能受到了靶材利用率低和刻蚀均匀性差的制约,因此寻求一种较高靶材利用率且在靶材表面的大面积范围内均匀溅射的方法成为研究的热点.简要介绍了辉光放电磁控溅射技术基本原理,综述了近20年来国内外研究机构和学者提高靶材利用率及刻蚀均匀性的主要方法.对已报道的优化磁极结构、辅助磁场、动态磁场等方法,以及反常刻蚀改进方法进行了详细介绍,并对比分析了各种方法优、缺点.对磁控溅射靶材优化方法的发展趋势及用途拓展进行了展望.

关键词：磁控溅射;靶材;利用率;刻蚀均匀性;磁极结构优化;磁场;反常刻蚀

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分类号：O657.31(分析化学)

资助基金：河北省专业学位研究生教学案例建设项目;钢铁研究总院与河北大学合作课题2019-2020;河北大学研究生创新资助项目

在线出版日期：2021-09-26（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共10页

页码：54-63