非均匀a-Si:H层的光致发光光谱研究

摘要：

本文报道了沉积于玻璃基板上的a-Si:H基结构在6K下测定的光致发光光谱.认为其非高斯特性是由材料中的不同相引起的.由光谱拟合获得的数值数据结果显示,它们可以认为是两种有不同结构无序化度区域的光致发光叠加的结果.这是沉积过程的问题,相当于无定形氢化硅结构性能的理想情况.

关键词：a-Si、H基结构、光致发光光谱

所属期刊栏目：32

分类号：O657(分析化学)

资助基金：感谢APVV 0577-07,VEGA 2/0123/09和VEGA2/0070/10项目的资助

在线出版日期：2012-05-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：43-47