流动注射化学发光法测定地质样品中痕量锗(Ⅳ)
万方数据知识服务平台
应用市场
我的应用
会员HOT
万方期刊
×

点击收藏,不怕下次找不到~

@万方数据
会员HOT

期刊专题

10.3969/j.issn.1000-7571.2005.01.003

流动注射化学发光法测定地质样品中痕量锗(Ⅳ)

引用
利用Ge(Ⅳ)对鲁米诺(Luminol)-(NH4)2MoO4-KI体系化学发光反应的催化作用和流动注射技术,建立了流动注射化学发光快速测定Ge(Ⅳ)的方法.该方法线性范围为0.02~1.0 mg/L,检出限为4.9×10-3mg/L,对0.2 mg/L Ge(Ⅳ) 11次平行测定的相对标准偏差为2.7%,该法用于地质样品中痕量锗(Ⅳ)的测定,其相对误差在-5.0%~3.2%.

化学发光、流动注射、锗(Ⅳ)

25

O657.32(分析化学)

国土资源部地质调查项目200020190115

2005-03-31(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共4页

11-14

相关文献
评论
暂无封面信息
查看本期封面目录

冶金分析

1000-7571

11-2030/TF

25

2005,25(1)

相关作者
相关机构

专业内容知识聚合服务平台

国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”

国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304

©天津万方数据有限公司 津ICP备20003920号-1

信息网络传播视听节目许可证 许可证号:0108284

网络出版服务许可证:(总)网出证(京)字096号

违法和不良信息举报电话:4000115888    举报邮箱:problem@wanfangdata.com.cn

举报专区:https://www.12377.cn/

客服邮箱:op@wanfangdata.com.cn