辉光放电光谱技术交流

摘要：

@@ 随着现代工业的发展,为了提高材料的耐磨、防腐和其他各种物理性能,越来越多的工件表面覆盖有涂层、镀层及有机层.从材料检测和仪器分析的角度上看,要求仪器的检测必须具备表面、逐层和基体分析的能力.辉光放电光谱仪(RF-GD-OES)就是一种理想的检测手段,它与其它检测仪器相比(如:SIMS等),不仅操作简单,对操作者的技术要求低,而且分析深度深(可达几百个微米),同时采用同一工作光源和工作条件,可以分析导体材料、半导体材料和绝缘体材料.

机标关键词：辉光放电光谱仪、半导体材料、检测仪器、仪器分析、现代工业、物理性能、检测手段、技术要求、工作条件、工件表面、操作者、材料检测、微米、涂层、能力、耐磨、理想、绝缘、基体、光源

所属期刊栏目：24

分类号：TF0(一般性问题)

在线出版日期：2005-07-07（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共1页

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