辉光放电光谱法分析掺杂纳米硅薄膜的研究

摘要：

介绍了利用辉光放电光谱法分析掺杂纳米硅薄膜:通过优化辉光光源激发参数、计算标准样品的溅射率,建立了掺杂纳米硅薄膜的定量表面分析方法.方法应用于实际掺杂纳米硅薄膜样品的分析,并将分析深度剖析结果与表面形貌仪的结果进行了对照.实验结果表明,本分析方法快速、准确,具有实际应用价值.

关键词：辉光放电、光谱法、掺杂、纳米硅薄膜

所属期刊栏目：24

分类号：TF0(一般性问题)

在线出版日期：2005-07-07（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：253-258