ICP-AES法测定高温合金中痕量铪的研究

摘要：

采用ICP-AES法对Hf 263.871nm, 264.141nm, 277.336nm, 282.022nm等灵敏谱线的分析性能进行研究,对高温合金中基体及合金元素的干扰情况进行考察,选用282.022nm作为分析线,并测定了Ti对Hf的干扰校正系数,确定了采用基体匹配法和干扰系数校正法对高温合金中痕量铪进行直接测定.方法的实际测定下限为0.0005%, 测定精度RSD≤20%.

关键词：ICP-AES、高温合金、铪、痕量分析

所属期刊栏目：22

分类号：O657.31(分析化学)

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：1-5