溅射时间对氧化钒薄膜性能的影响

摘要：

采用直流磁控溅射法在普通玻璃上制备了氧化钒薄膜,并对薄膜采取了450℃真空退火处理,分别测量了退火前后薄膜XRD图谱及电阻,比较了不同溅射时间(120 min、100 min、60min)对薄膜性能的影响.结果表明,溅射时间增长,薄膜的结晶度也增强,经过退火处理,薄膜的电阻明显减小,且溅射时间越长,薄膜的阻值越小,3块薄膜的电阻分别达到16.0 MΩ、65.0 MΩ、71.5 MΩ,其随温度变化的幅度也越小.

关键词：氧化钒、薄膜、退火、电学性能、溅射时间

所属期刊栏目：35

分类号：O436(光学)

资助基金：安徽省红外与低温等离子体重点实验室基金资助项目2010A001004D

在线出版日期：2013-08-02（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：426-428,434