薄膜电阻器用磁控溅射高阻靶材

摘要：

在用磁控溅射技术制备金属膜电阻器的生产过程中,靶材非常关键,它制约着金属膜电阻器的精度、可靠性、稳定性和电阻温度系数等性能.根据理论分析,提出了高稳定性的高阻靶材的最佳成分比例.自行设计了熔炼模壳及冷却方法,有效解决了因Si元素的脆性而引发的靶材开裂问题.溅射的金属膜电阻器,其高温储存试验、寿命试验、耐湿试验均达到了国家有关标准.

关键词：金属膜电阻器、溅射靶材、熔炼技术

所属期刊栏目：31

分类号：TN104(真空电子技术)

资助基金：天津市科技攻关培育基金资助项目06YFGPGX08400;天津大学先进陶瓷与加工技术教育部重点实验室开放基金

在线出版日期：2009-09-23（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：525-527