10.3969/j.issn.1004-2474.2006.05.025
退火对溅射ZnO薄膜光吸收性能的影响
利用射频磁控溅射制备了高c轴取向的ZnO薄膜,采用X-射线衍射仪、扫描电镜和紫外-可见光分光光度计研究了退火对ZnO薄膜的结构和光吸收性能的影响.结果表明,退火可以改善ZnO薄膜的质量和光吸收性能.退火后薄膜的结构、形貌和光吸收性能得到改善,薄膜中缺陷减少,晶粒长大致密化,尺寸较均匀;紫外吸收峰变窄,强度增加,吸收边变得陡峭并向长波方向移动,光学带隙降低.450 ℃退火的ZnO薄膜具有最佳的结晶质量和紫外吸收性能.
ZnO薄膜、退火、光吸收
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TB383(工程材料学)
2006-11-13(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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