NiTiPd形状记忆合金薄膜的相变和力学特性

摘要：

利用磁控溅射法制备了NiTiPd形状记忆合金薄膜,并对晶化后的薄膜测量了其相变特性和力学性能.结果表明,薄膜在真空室中于750 ℃热处理1 h可获得较好的形状记忆效应,NiTiPd薄膜的相变温度比相应的NiTi薄膜的相变温度高,奥氏体相变温度As高于100 ℃.在室温到150 ℃范围,随着温度升高,薄膜的断裂强度提高,但是残余应变变小.

关键词：磁控溅射法、NiTiPd薄膜、相变、力学性能

所属期刊栏目：28

分类号：TG113.2;TG139(金属学与热处理)

资助基金：上海市科委资助项目

在线出版日期：2006-06-29（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：319-320,324