微观结构对PZT薄膜反应离子刻蚀的影响

摘要：

随着锆钛酸铅(PZT)薄膜在铁电微器件中的广泛应用,薄膜微图形化和刻蚀的研究也日益受到重视.研究表明在薄膜的刻蚀过程中,薄膜表面的微观结构和等离子体都对刻蚀有很大的影响.该文研究了具有不同微观结构的薄膜的反应离子刻蚀特性.分别用X-射线衍射图、原子力间力显微镜和X-射线光电子能谱对薄膜表面的微观结构、形貌及刻蚀特性进行测量.结果表明,随着薄膜最终热处理温度升高,薄膜表面越来越致密,刻蚀速率也随之降低.当薄膜处于无定形态结构时薄膜的刻蚀速率较高,最高可达13 m/min.

关键词：锆钛酸铅、薄膜、反应离子刻蚀、微观结构

所属期刊栏目：27

分类号：TN405(微电子学、集成电路（IC）)

资助基金：上海市学科建设项目

在线出版日期：2005-09-29（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：415-417