PZT铁电薄膜刻蚀的研究进展

摘要：

PZT铁电薄膜器件在微电子领域有着广泛的应用,可用于制备微机械系统(MEMS)、DRAM、红外探测器等,而薄膜的微图形化刻蚀技术是制备工艺中重要的环节.该文主要介绍了PZT铁电薄膜刻蚀技术的研究进展和应用,并对各种刻蚀法进行分析和对比.

关键词：PZT、铁电薄膜、刻蚀、微图形

所属期刊栏目：25

分类号：TN405(微电子学、集成电路（IC）)

资助基金：国家高技术研究发展计划863计划715-002-0250;西安交通大学校科研和教改项目;中国-以色列合作项目

在线出版日期：2003-12-05（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：386-389