微波退火非晶硅薄膜低温晶化研究

摘要：

多晶硅薄膜晶体管以其独特的优点在液晶显示领域中起着重要的作用。为了满足在普通玻璃衬底上制备多晶硅薄膜晶体管有源矩阵液晶显示器，低温制备（＜600°C）高质量多晶硅薄膜已成为研究热点。文章研究了一种低温制备多晶硅薄膜的新工艺：微波退火非晶硅薄膜固相晶化法，利用X射线衍射、拉曼光谱和扫描电镜分析了微波退火工艺对非晶硅薄膜固相晶化的影响，成功实现了低温制备多晶硅薄膜。

关键词：微波退火、低温晶化、非晶硅薄膜、多晶硅薄膜

所属期刊栏目：23

分类号：TN304.055(半导体技术)

资助基金：华中理工大学与香港科技大学合作研究项目

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：53-55