硅/氧浓度初始分布对硅晶圆内V-O2对演变影响的仿真

摘要：

为了揭示自间隙硅原子相对浓度和间隙氧原子相对浓度的初始分布状态对低温退火期间硅晶圆内V-O2对介观演变的影响,应用原有相场仿真模型及其改进模型,仿真了两个不同的点缺陷相对浓度初始分布状态下退火的硅晶圆内V-O2对演变过程.结果表明:在文章的仿真条件下,均匀分布的硅原子相对浓度未影响V-O2对演变,这与不考虑硅原子存在的情况相同;与均匀分布状态相比,初始的氧原子相对浓度随机均匀分布状态使得V-O2对生成速度减慢.

关键词：仿真;硅晶圆;V-O2对;自间隙硅原子;间隙氧原子;初始的浓度分布

所属期刊栏目：36

分类号：TG111(金属学与热处理)

资助基金：国家自然科学基金项目;山东大学晶体材料国家重点实验室开放课题

在线出版日期：2022-01-04（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共8页

页码：35-42