ZnO薄膜的制备和研究进展

摘要：

ZnO作为一种新型的宽禁带半导体材料,具有很好的化学稳定性和热稳定性,抗辐射损伤能力强,在光电器件、压电器件、表面声波器件等诸多领域有着很好的应用潜力.本文介绍了ZnO薄膜的基本性质以及喷雾热分解、脉冲激光沉积、金属有机物化学气相沉积等制备ZnO薄膜的技术和方法,并着重介绍了在ZnO紫外受激发射和p型掺杂等方面的研究进展.

关键词：ZnO薄膜、紫外受激发射、p型掺杂

所属期刊栏目：18

分类号：O434;O484.4(光学)

资助基金：河南省自然科学基金0424220173

在线出版日期：2005-09-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：344-345,361