生长速率对镁合金微弧氧化膜结构及耐蚀性的影响

摘要：

硅酸盐电解液体系中对AZ91D镁合金进行微弧氧化处理,膜层厚度相同但生长速率不同是本研究的实验设计特色.通过调节电源电压,使得膜层的生长速率分别为l,5,15和25 μn/min,从而制备出生长速率不同但厚度相同的微弧氧化膜层,对膜层的微观结构及耐蚀性进行定性及定量研究,从实验室研究及实际应用角度对不同生长速率的各膜层进行综合对比分析.结果表明,生长速率对膜层的表面孔隙率、微孔的尺寸及数量,膜层的质量及质量厚度比,以及膜层耐蚀性均有较大的影响,但对膜层中的成分及元素分布基本无影响;在工业应用中,膜层生长速率的选择,应将膜层的生产效率和膜层性能统筹考量,本研究中生长速率为15 μm/min的膜层显示出这样的优势.

关键词：镁合金、微弧氧化、生长速率、微观结构、耐蚀性

所属期刊栏目：46

分类号：TG1;TQ1

资助基金：The Creative Research Group Fund Grant of Gansu Province 1111RJDA011

在线出版日期：2017-11-24（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：2399-2404