Fe-Ga薄膜的微结构与磁性能研究

摘要：

采用磁控溅射方法,以Si(100)为衬底在40～80W功率下制备了Fe83Ga17薄膜,通过XRD、SEM、室温磁滞回线以及MFM的测量研究了不同溅射功率制备的Fe-Ga薄膜的结构、形貌、磁性能和磁畴.XRD结果表明室温下薄膜样品是bcc(110)晶体结构.SEM观察结果表明薄膜颗粒尺寸在40～70 nm且随着功率增大,薄膜颗粒的尺寸变大,薄膜厚度增加.室温磁滞回线的测量结果表明一定范围内随着功率增大,样品的矫顽力Hc总体呈上升趋势,饱和磁化强度Ms的变化规律并不明显,剩余磁化强度Mr和矩形比Mr/Ms呈缓慢下降的趋势.磁畴的观察结果表明样品的磁畴为迷宫畴结构,且随着功率增大,磁畴的尺寸增大.

关键词：Fe-Ga薄膜、磁控溅射、薄膜结构、磁性能、磁畴

所属期刊栏目：46

分类号：TG34(金属压力加工)

资助基金：浙江省自然科学基金Y4100618

在线出版日期：2017-03-28（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：406-410