磁控溅射制备ZnO缓冲层薄膜的微观结构和光学性能

摘要：

研究了衬底温度、溅射气压对磁控溅射沉积ZnO缓冲层薄膜的微观结构、表面形貌和光学性能的影响.结果表明,衬底温度、溅射气压对ZnO缓冲层薄膜表面形貌、晶粒尺寸、禁带宽度和光学透过率等有较大影响.综合分析得出最佳的制备ZnO缓冲层薄膜的工艺为250℃、0.6 Pa.在此工艺下制备的ZnO缓冲层薄膜具有很好的ZnO(002)面c轴择优取向,结构致密、尺寸均匀,禁带宽度为3.24 eV,可见光平均透过率为86.93％,符合作CIGS太阳能电池缓冲层的要求.

关键词：衬底温度、溅射气压、ZnO缓冲层、微观结构、光学性能

所属期刊栏目：43

分类号：TM615(发电、发电厂)

资助基金：上海市科技攻关项目08110511600;上海市教委重点学科项目J50503

在线出版日期：2014-10-23（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：2203-2208