提拉法制备Sm0.2Ce0.8O1.9单层缓冲层及其性能研究

摘要：

在双轴织构的Ni-5％W合金基带上,采用高分子辅助化学溶液沉积法通过提拉涂敷法,制备了厚度达250 nm的Sm0.2Ce0.8O1.9(SCO)外延织构单层缓冲层.通过严格控制前驱溶液的浓度、提拉速度、成相温度和热处理时间,所获的SCO单层缓冲层涂层平整、无微裂纹、且具有较强的(200)c轴外延织构.在其他条件假设不变的情况下,主要研究不同提拉速度对SCO缓冲层薄膜性能的影响.在此基础上,采用化学溶液法在SCO/NiW缓冲层上制备了YBCO超导层,其具有高度的双轴织构和均匀的表面形貌.结果表明:用提拉法获得的SCO单层缓冲层在具有适度的厚度下,仍然具有很好的织构传递特性,为低层本制造YBCO涂层导体长带提供了一条可靠的路线.

关键词：Sm0.2Ce0.8O1.9-x(SCO)、高分子辅助化学溶液沉积、提拉法

所属期刊栏目：42

分类号：TM2;O48

资助基金：Fundamental Research Funds for the Central Universities of ChinaSWJTU09ZT24,SWJTU09BR153,SWJTU09CX055,SWJTU11ZT16,SWJTU11ZT31;National Natural Science Foundation50872116,51072168,51102199,51202202,51271155;the PCSIRT of the Ministry of Education of ChinaIRT0751;the Specialized Research Fund for the Doctoral Program of Higher Education200806130023;National Magnetic Confinement Fusion Science Program2011GB112001;Program of International S&T CooperationS2013ZR0595;Science Foundation of Sichuan Province2011JY0031,2011JY0130

在线出版日期：2013-04-18（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：227-231