Co掺杂非晶C薄膜的低温磁输运特性及磁性能研究

摘要：

采用磁控共溅射方法在n型Si(100)基片上制备了一系列具有不同Co含量(x,at％)的Co掺杂非晶C颗粒薄膜,溅射温度为室温.研究了Co-C颗粒薄膜的微结构,磁输运特性及磁性能.通过优化Co含量,在低温下发现了较大的负磁电阻(MR).温度为2K、磁场为90×79.6 kA.ml时,Co含量为6.4 at％的Co-C薄膜的负磁电阻值最大,达到27.6％.随着Co含量从6.4 at％增加至16.4 at％,MR 值从27.6％逐渐减小至2.2％.电阻率ρ随温度T的变化曲线显示了线性的lnρ-T1/2关系,说明样品中电子传导遵循隧穿输运机制.

关键词：Co掺杂非晶C薄膜、磁控共溅射、磁输运、磁性能

所属期刊栏目：41

分类号：O48;TG1

资助基金：National Natural Science Foundation of China51041010;The Ph.D.Programs Foundation of Ministry of Education of China20090002110007;the National Basic Research Program of China2010CB934602

在线出版日期：2013-01-30（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：1887-1890