铜互连线低压无磨料化学机械平坦化技术

摘要：

在低压无磨料条件下,利用碱性FA/O型螯合剂具有极强螫合能力的特性,对铜互连线进行化学机械平坦化,获得了高抛光速率和表面一致性.提出了铜表面低压无磨料抛光技术的平坦化原理,在分析了抛光液化学组分与铜化学反应机理的基础上,对抛光液中的主要成分FA/O型螯合剂、氧化剂的配比和抛光工艺参数压力、抛光机转速进行了研究.结果表明:在压力为6.34 kPa和抛光机转速为60 r/min时,抛光液中添加5％螯合剂与1％氧化剂(体积分数,下同),抛光速率为1825 nm/min,表面非均匀性为0.15.

关键词：铜互连线、无磨料、低压、FA/O型螫合剂、化学机械平坦化

所属期刊栏目：41

分类号：TG175(金属学与热处理)

资助基金：国家中长期科技发展规划02科技重大专项2009ZX02308

在线出版日期：2012-08-27（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：717-721