脉冲激光能量密度对Mo薄膜生长的影响
用脉冲激光沉积(PLD)法在Si(100)基片上制备金属Mo薄膜,研究薄膜结晶性能与能量密度之间的关系,探讨薄膜生长机制和粒子能量在薄膜生长中的作用.原子力显微镜(AFM)图像显示,薄膜表面平整、光滑,均方根粗糙度小于2 nm.X射线衍射(XRD)分析表明,随着能量密度的增加,Mo薄膜衍射峰宽变窄,薄膜从非晶态逐步变为多晶态,晶粒尺寸逐步变大.
脉冲激光沉积(PLD)、Mo薄膜、能量密度、表面粗糙度、晶粒尺寸
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O484(固体物理学)
国家"863"计划项目
2011-01-05(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共4页
1623-1626