Ar+离子束对U薄膜表面粗糙度的影响

摘要：

采用Ar+离子束对U薄膜表面进行反应溅射,通过白光干涉仪和台阶仪的测量与分析,着重研究Ar+离子束溅射能量、入射角度对其表面粗糙度Ra的影响,并与Ar+离子束刻蚀试验进行比对.结果表明,以30°角入射,随溅射时间的增加,能量为0.5 keV的Ar+离子束较1.0 keV对U薄膜表面粗糙度趋于减小,表面愈光滑,溅射深度仅限于纳米级,而与金属Mo的刻蚀效果相比与之相反.Ar+离子束溅射对材料表面具有超精细抛光的效果,辅之于离子束微米级刻蚀减薄,将有助于U薄膜表面精细加工.

关键词：Ar+离子束、反应溅射、刻蚀、U薄膜、表面粗糙度

所属期刊栏目：39

分类号：TB43(工业通用技术与设备)

在线出版日期：2010-08-16（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：889-891