微弧氧化工艺对锆合金表面陶瓷层厚度和形貌的影响

摘要：

在磷酸盐电解液体系中制备了Zr-4合金的微弧氧化陶瓷层,研究了正负向电压、频率及氧化时间等工艺参数对陶瓷层的厚度和表面微观形貌的影响.结果表明:综合对陶瓷层厚度和表面质量的影响因素,适宜的工艺参数为正向电压520 V,负向电压160 V,频率250 Hz,氧化时间10 min.在此条件下,可得到厚度50μm左右的表面状况较好的陶瓷层.较高的正向电压和较长的氧化时间有利于提高膜层的厚度,而高的正负向电压、低频率和长时间的氧化,容易形成带有较大孔洞的火山状突起和穹状表面,膜层出现裂纹并且崩离的趋势增大,因此锆合金的微弧氧化需要有适当的工艺参数配合.

关键词：Zr-4合金、微弧氧化、工艺参数、陶瓷层厚度、表面形貌

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分类号：TG146.4+14;TG174.451(金属学与热处理)

资助基金：内蒙古自治区自然科学基金项目200508010703

在线出版日期：2008-11-05（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：1466-1470