10.3321/j.issn:1002-185x.2007.12.037
模板法电化学沉积超长铜纳米线制备及其性能
用恒电位电化学沉积法,尝试在氧化铝模板纳米孔内制备超长铜纳米线.透射电子显微镜(TEM)和扫描电子显微镜(SEM)分析结果表明:在较低的沉积电位下,纳米线表面较为光滑且呈现条纹结构,直径均匀,大约100 nm,线长可达40~50μm,放置一段时间后离解成颗粒状;较高沉积电位下,纳米线的边缘粗糙不平,主要由晶粒连接而成,晶粒之间有空隙存在.金属纳米线的生长实际上是金属颗粒的堆积过程,金属原子之间无较强的化学键存在.由x射线衍射(XRD)、高分辨透射电子显微镜(HRTEM)分析得知,低电位下所得纳米线为单晶结构,沿[111]方向生长,而高电位下则出现了孪晶结构.
氧化铝模板、铜纳米线、单晶、孪晶
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TB383;TG146.1+1(工程材料学)
江苏省高新技术项目BG2005009
2008-04-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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