10.3321/j.issn:1002-185X.2006.01.024
TiO2光催化纳米薄膜的晶化处理
TiO2光催化纳米薄膜在400℃~800℃温区内恒温退火1 h~2 h,以消除膜内非晶,提高薄膜光催化活性.热处理前后试样的检测结果表明:退火使TiO2薄膜内非晶晶化,晶粒长大,光响应电流增大.随退火温度的升高,TiO2薄膜出现由非晶→锐钛矿→金红石的转变.其中,600℃退火1 h的TiO2薄膜为锐钛矿加金红石的混晶结构,光电流密度最大IUv=41.2A/m2,光催化活性最好.
TiO2光催化纳米薄膜、晶化处理、锐钛矿、光催化活性
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TG146(金属学与热处理)
2006-03-16(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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