ITO废靶回收金属铟

摘要：

磁控溅射镀膜后的ITO废靶, 以及ITO靶材生产中产生的边角料、切屑、废品等是再生铟的主要原料. 对废靶的还原-二次电解工艺进行了研究, 并获得了工艺参数良好、回收率高、纯度为99.993%的金属铟产品.

关键词：铟、回收、ITO废靶

所属期刊栏目：27

分类号：TN304.057(半导体技术)

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：101-103