正背栅SOI-MOSFET二维阈值电压解析模型
通过建立沟道区域和埋氧区域的二维泊松方程,并考虑衬底区域的掺杂和背栅偏压对器件阈值电压的影响,得到了一种正背栅全耗尽SOI-MOSFET二维阈值电压模型。根据模型计算结果,研究了衬底掺杂浓度和衬底(背栅)偏压对器件阈值电压的影响,通过与MEDICI数值模拟结果的比较表明,该模型能预计不同衬底掺杂浓度和衬底(背栅)偏压对阈值电压的影响,正确反映器件的短沟效应和背栅效应。
全耗尽SOI-MOSFET、背栅电压、阈值电压解析模型
TN3;TN4
高等学校博士学科点专项科研基金20090201120026;西安应用材料创新基金XA-AM-201008
2014-01-07(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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