基于混合本征模匹配的光刻掩膜分析方法研究

摘要：

隐式模式匹配是分析波导结构电磁特性常用的数值方法.分析了现有隐式模式匹配方法在解决计算光刻问题上存在的局限性,以该方法为基础,提出了基于Krylov子空间理论的混合本征模重构以及显式模式匹配方法.修正了隐式模式匹配方法中采用的非严格迭代策略导致的本征模精度不足问题,算法计算复杂度保持在O(N1.5).采用典型波导及周期结构对所提算法的精度及效率进行了验证.通过对高复杂度光刻掩膜结构进行仿真,将计算结果与高频结构仿真器软件以及严格耦合波分析(rigorous coupled wave analysis,RCWA)算法结果进行了对比,验证了本文所提方法在分析高复杂度光刻问题中的应用价值和效率优势.

关键词：计算电磁学、模式匹配、计算光刻

所属期刊栏目：45

分类号：O436.1(光学)

资助基金：国家自然科学基金;北航卓越百人计划;广西自然科学基金项目;广西科技基地和人才专项资助课题

在线出版日期：2023-11-13（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共8页

页码：3374-3381