知识产权保护对高技术产业科技绩效的影响机理——基于面板门限模型实证分析

摘要：

在中国转型期特有背景下,针对高技术产业环境,利用中国2000～2012年省际面板数据,通过内生的面板门限回归和固定效应模型等计量方法实证了知识产权保与高技术产业科技绩效间更为复杂的非线性特征,并引入了区域研发创新异质性门槛因素.研究表明:知识产权保护对产业科技绩效存在显著门限效应,知识产权保护强度门槛水平的提高一定程度促进了高技术产业科技绩效的提升,并且过程受限于各地区产业的研发水平差异,突破了简单的U型或倒U型理论框架.另外,中国高技术产业科技绩效影响因素间存在显著的协同作用机制.

关键词：知识产权保护、研发创新水平、高技术产业、科技绩效、门限效应

所属期刊栏目：34

分类号：F204(国民经济管理)

资助基金：国家社会科学基金;黑龙江省自然科学基金

在线出版日期：2017-07-04（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共9页

页码：64-72