热流计SiO2热阻层离子束溅射制备及耐热性研究∗
薄膜热阻式热流计具有响应速度快、结构微型化以及量程广、输出大等优点,是当前使用最广泛的热流传感器.热阻层SiO2膜层与基底材料的结合性能对于热流计的高可靠性来说十分重要,而膜层特性与溅射沉积参数、后期热处理技术之间密切相关.因此,该文围绕离子束溅射SiO2薄膜作为热流计热阻层材料,对不同镀膜时间、热处理工艺之后膜层的表面成分、形貌以及与基底结合强度进行了研究分析.研究发现,550℃热处理能够有效改善膜层的结合力,离子束溅射制备的SiO2薄膜热阻层在高温循环考核的环境下依然保持了较强的结合力.
热流计、离子束溅射、热阻层、SiO2膜、结合强度
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O152.1(代数、数论、组合理论)
国家重点研发计划;湖南省重点领域研发计划
2021-07-13(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共6页
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