氮气流量对磁过滤沉积AlN纳米薄膜显微组织与性能的影响

摘要：

AlN薄膜具有优良的绝缘性能和力学性能,被广泛应用于微电子领域的绝缘耐压涂层.采用离子注入结合磁过滤等离子体沉积技术,氮气流量为30～90 sccm,在304不锈钢和环氧玻璃纤维板上制备硬质AlN纳米涂层.采用XPS、AFM、XRD和SEM分析AlN纳米涂层的成分、表面形貌及结构.采用纳米硬度计、介电谱仪以及兆欧级电阻表研究涂层的力学和电学性能.结果表明,制备的AlN纳米薄膜结构致密、表面光滑.随氮气流量的增加,薄膜由强(100)择优取向转变为(100)、(002)和(102)任意取向生长.AlN纳米薄膜的纳米硬度、H/E?、H3/E?2先增加后减小,而电导率逐渐下降,阻抗逐渐增加.氮气流量为60 sccm时,AlN纳米涂层具有优良的力学性能和电学性能.

关键词：氮化铝薄膜、离子注入、磁过滤沉积、环氧玻璃纤维板

所属期刊栏目：42

分类号：O484.1;TB43(固体物理学)

资助基金：北京市科学技术研究院萌芽计划项目GS201829

在线出版日期：2021-01-22（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共9页

页码：20-28