10.3969/j.issn.1000-5900.2011.02.004
化学有序AlxGa1-xN合金的第一性原理研究
基于第一性原理方法系统研究了化学有序结构AlxGa1-xN合金的结构特征和电子性质.结果表明:随着组分x的增大,化学有序结构AlxGa1-xN合金的晶格常数逐渐减小,而结构稳定性变强.计算的电子结构揭示:化学有序结构AlxGa1-xN合金是直接带隙半导体,其带隙随着x的增大而变宽.化学有序化对带隙变化的影响可能源于量子阱的局域化,且化学有序结构AlxGa1-xN的化学键是包含明显离子特性的共价键.
AlxGa1-xN、化学有序、能带结构、第一性原理、半导体
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O738(晶体物理)
国家自然科学基金项目50861002,51071053;湖南省材料设计与制备工艺重点实验室开放项目KF0803
2012-01-15(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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