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10.3969/j.issn.1000-5900.2011.02.004

化学有序AlxGa1-xN合金的第一性原理研究

引用
基于第一性原理方法系统研究了化学有序结构AlxGa1-xN合金的结构特征和电子性质.结果表明:随着组分x的增大,化学有序结构AlxGa1-xN合金的晶格常数逐渐减小,而结构稳定性变强.计算的电子结构揭示:化学有序结构AlxGa1-xN合金是直接带隙半导体,其带隙随着x的增大而变宽.化学有序化对带隙变化的影响可能源于量子阱的局域化,且化学有序结构AlxGa1-xN的化学键是包含明显离子特性的共价键.

AlxGa1-xN、化学有序、能带结构、第一性原理、半导体

33

O738(晶体物理)

国家自然科学基金项目50861002,51071053;湖南省材料设计与制备工艺重点实验室开放项目KF0803

2012-01-15(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共7页

10-16

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湘潭大学自然科学学报

1000-5900

43-1066/TN

33

2011,33(2)

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