脉冲喷射电沉积纳米晶镍镀层的工艺优化

摘要：

为了在硫酸盐体系中得到工艺稳定、光亮、硬度高的纳米晶镍镀层,进行了4因素(电流密度、喷速、脉冲频率和占空比)3水平正交试验.优选出制备微观结构镀层的最佳的工艺条件是:喷速1 000 L/h,电流密度20.4 A/dm2,占空比40%,脉冲频率1 000 Hz;制备硬度镀层的最佳的工艺条件是:电流密度15.3 A/dm2,占空比40%,喷速1 400 L/h,脉冲频率1 000 Hz.分析了各因素对镀层晶粒尺寸和硬度的影响.结果表明,电流密度对镀层质量影响较大,而选择合适的喷速使镀层具有优异的硬度和比较小的晶粒尺寸.

关键词：脉冲喷射电沉积、镍镀层、正交方法、晶粒尺寸、显微硬度

所属期刊栏目：30

分类号：TG174.441(金属学与热处理)

资助基金：湖南省教育厅划块项目资助06C840

在线出版日期：2009-03-25（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：48-54