氧氛围下PLD法沉积纳米金刚石薄膜

摘要：

用固体脉冲激光(Nd∶YAG)烧蚀石墨靶在镜面αAl2O3(0001)上沉积纳米金刚石薄膜.用Raman谱、XRD衍射谱和SEM分别对薄膜的成键情况和表面形貌进行了分析.结果表明:显微Raman谱出现三个峰包:1 150 cm-1、1 350 cm-1、1 580 cm-1,分别对应着纳米金刚石特征峰、石墨的D峰和G峰;XRD衍射谱在41.42°出现金刚石的(100)衍射峰.实验结果表明,影响薄膜生长的关键参数主要是氧气压的大小和衬底的温度.在氧气压为6 Pa和衬底温度为550 ℃时,制备的薄膜质量较好.对用PLD法在氧气氛围下生长的金刚石薄膜的生长机理进行了分析.

关键词：脉冲激光沉积、纳米晶金刚石薄膜、生长机理

所属期刊栏目：25

分类号：O484.1(固体物理学)

资助基金：湖南省教育厅科研项目02C574

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：30-33