氩离子辅助轰击对激光烧蚀法制备非晶碳膜的影响

摘要：

离子辅助轰击能有效改善非晶碳(a-C)膜的质量.用脉冲激光(532 nm, 3.5×108 W/c m2)烧蚀石墨靶,同时用Ar+轰击膜面,在Si(100)衬底上沉积a-C膜.用扫描电镜和喇曼光谱对膜结构作了分析.结果表明:在较低气压和较高的射频功率下制备的a-C膜质量较好,同时,激光重复频率对膜生长也有显著影响.

关键词：离子辅助轰击、非晶碳、激光烧蚀

所属期刊栏目：24

分类号：O484.5(固体物理学)

资助基金：湖南省教育厅科研项目98002B

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：97-100