电弧离子镀工艺参数对CrSiN薄膜性能影响的研究

摘要：

利用电弧离子镀方法,在(SCM415)钢基体上制备了Cr-Si-N薄膜.通过调节Cr-Si靶中Si的比例,沉积了Si含量不同的Cr-Si-N薄膜.讨论了Si含量、偏压对薄膜硬度的影响.添加Si后得到的纳米复合薄膜Cr-Si-N的硬度比单纯的CrN薄膜有了显著的提高.采用X射线衍射(XRD)和X射线光电子能谱(XPS)对Cr-Si-N薄膜进行分析,研究讨论了Cr-Si-N薄膜的成分、结构及薄膜硬度增强的微观机制.

关键词：电弧离子镀、Cr-Si-N薄膜、显微硬度、内部压缩应力

所属期刊栏目：31

分类号：O484.4(固体物理学)

资助基金：西南大学校科研和校改项目SWNUF2005001

在线出版日期：2006-07-14（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：52-56