10.3969/j.issn.1000-5471.2002.06.016
磁性隧道结电阻与电流驱动相关性分析
利用离子束高真空复合溅射装置置备具有Ta缓冲层和Ta/Fe/Ta覆盖表面层的Fe/Al2O3/FeCo的磁性隧道结.在零磁场下观测隧道结电导和结电阻面积积(RA)与垂直射入隧道结平面的自旋极化发射电流的依赖关系.研究发现,磁性隧道结的电导和RA的发射电流驱动效应取决于隧道结的物相成分、微结构和电流强度.在大驱动电流范围观测到电导特性不同的4个区域.
磁性隧道结、离子束溅射、结电阻
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O482.5(固体物理学)
国家重点基础研究发展计划973计划G1999064508
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共5页
896-900