10.3969/j.issn.1003-2843.2006.06.024
拓扑指数mL在金属卤化物标准生成焓△Hθf中的相关性研究
提出了一种新的键参数拓扑指数mL.用mL的0、1阶指数分别与54种金属卤化物的标准生成焓△Hθf关联,拟合的回归方程的相关系数R=0.993,满足优级标准,预测取得较好结果.
拓扑指数、金属卤化物、标准生成焓、相关性
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O641;O6-051(物理化学(理论化学)、化学物理学)
2007-01-16(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共3页
1169-1171