键参数拓扑指数与金属卤化物的标准生成焓△fH的相关性研究

摘要：

提出了一种新的键参数拓扑指教mVq,mVq=∑{ninjnk…[Z*i|Ri)(Z*j/Rj)(Z*k/Rk)…]0.5},0V=∑ni(Z*i|Ri)0.5为零阶指数,1V=∑ninj(Z*i|Ri)0.5*(Z*j/Rj)0.5为1阶指数.将0V,1V,△X(电负性差)与59种卤化物的标准生成焓△fH°进行关联,取得了较为满意的结果,相关系数R=0.986525.mVq是较为理想的拓扑指数,可用来估算金属卤化物的热力学量.

关键词：键参数拓扑指数、金属卤化物、标准生成焓、相关性

所属期刊栏目：30

分类号：O6-051

在线出版日期：2004-09-09（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：446-449