纳米压印技术在光电领域的应用

摘要：

当前,一种新型纳米压印技术被提出并开始逐步用于后续替代光刻机,纳米压印的基础原理为将硅胶覆盖在一个图形基板上,待硅胶完全与基板贴合后固化,然后剥离掉硅胶,最后将硅胶压到匀胶好的晶片表面进行紫外光照射及加热,从而实现把硅胶表面的图形转移到光刻胶上.纳米压印技术已经广泛应用到图形化蓝宝石衬底上,一种与图形化蓝宝石衬底相接近的新型图形化蓝宝石复合衬底已经被提出并开始商业化,该产品主要采用的依然是原始的光刻方法进行图形化转移,主要论述纳米压印技术在图形化蓝宝石复合衬底为主的光电领域应用的可行性.

关键词：光刻机、紫外光、纳米压印、硅胶、图形化蓝宝石复合衬底

所属期刊栏目：430

分类号：TM23(电工材料)

资助基金：吉林工业职业技术学院教育学会教学类课题23jyy04

在线出版日期：2023-11-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共9页

页码：17-25