直流偏压对CrN薄膜结构和性能的影响

摘要：

采用电弧离子镀技术在高速钢表面制备CrN薄膜,研究直流偏压对CrN薄膜结构和性能的影响.利用冷场发射扫描电镜和X射线衍射仪对薄膜的表面形貌和微观结构进行分析,利用球坑仪、显微硬度计以及多功能材料表面性能试验仪等,对薄膜的厚度、硬度以及结合力进行研究.结果表明,在不同直流偏压下,薄膜均由CrN相组成.当直流偏压从-60 V增加到-80 V时,薄膜表面大颗粒数数量和尺寸明显减少,沉积速率、硬度和结合力增加;但当直流偏压幅值继续增加时,薄膜表面大颗粒的数量和尺寸随之增加,沉积速率、硬度和结合力随之降低.当直流偏压为-80 V时,薄膜的表面形貌、沉积速率、硬度和结合力最佳.

关键词：直流偏压、CrN薄膜、表面形貌、微观结构、沉积速率、力学性能

所属期刊栏目：411

分类号：TG174.4(金属学与热处理)

资助基金：国防科技项目基金（非规范项目名称）JPPT-135-GH-2-101

在线出版日期：2022-04-14（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：1-4