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10.3969/j.issn.1003-5311.2014.02.026

谐振面积与电极图案对质量传感器性能的影响

引用
在p型(100)单晶Si基衬底上,利用磁控溅射设备完成直流溅射Mo/Ti布拉格反射层和射频反应溅射AlN压电层,用光刻微加工工艺设计了不同谐振面积与电极图案的Ti/Au上电极,在优化工艺条件下制备了氮化铝基体声波质量传感器,比较分析了不同电极图案和谐振面积对传感器性能的影响.研究表明,电极图案相同时,谐振面积为10 000(100×100) μm2的器件电学性能最好,谐振面积相同时,电极图案为圆形的损耗最小;内角为直角的正方形损耗最大,内角为钝角的五边形损耗居中.

磁控溅射、质量传感器、谐振面积、电极图案

TN405(微电子学、集成电路(IC))

2014-05-07(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共3页

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1003-5311

11-1765/T

2014,(2)

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