10.3969/j.issn.1003-5311.2011.08.042
基于Al-Si合金熔体的冶金级硅纯化新工艺
为了提高冶金级硅的纯度,本文研究了A1对去除冶金级硅中金属杂质的作用.结果表明,以工业Si和工业Al为原料,通过Al-Si合金化和酸浸除杂相结合制备Si材料,将A1-Si合金破碎成一定尺寸的颗粒,然后采用氢氧化钠溶液、氢氟酸和盐酸溶液顺序腐蚀去除Al和其他杂质,最终获得纯度为99.91%的Si颗粒.结合扫描电镜(SEM)、能谱仪(EDS)以及X射线荧光光谱(XRF)等分析手段,对腐蚀前后材料的微观结构和杂质含量的变化进行研究,初步探讨了冶金级Si经过Al-Si合金熔炼更有利于除杂的原理.
冶金级Si、纯化、Al-Si合金、腐蚀
TF89(有色金属冶炼)
2012-01-15(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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