应用L-MBE方法制备ZnO薄膜的结构和光学特性

摘要：

用激光分子束外延(Laser Molecular Beam Epitaxy,L-MBE)设备在p型Si(111)衬底上制备了不同衬底温度和不同氧压的ZnO薄膜,用X射线衍射仪(XRD)和原子力显微镜(AFM)分别对薄膜的结构和形貌进行了分析,用He-Cd激光(325 nm)激发的光致发光测试系统对薄膜进行了荧光光谱分析.研究发现,在衬底温度为400 ℃,氧压1 Pa左右所制备的ZnO薄膜表面比较均匀致密,晶粒生长较充分,有较高的结晶质量和发光强度.ZnO薄膜的近带边发射与薄膜的结晶质量和化学配比均有关系.

关键词：激光分子束外延、ZnO薄膜、结构特性、光致发光

分类号：O469(真空电子学（电子物理学）)

资助基金：山东省自然科学基金资助项目J08LI04海军航空工程学院基础研究基金资助项目HYJC2010022

在线出版日期：2011-04-07（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：79-83