10.3969/j.issn.1003-5311.2008.07.013
新型复合表面抛光技术
随着生产技术的不断进步,为了提高抛光效果,出现了化学一机械抛光(Chemical-MechanicalPolishing,简称CMP)、电解一机械抛光、超声波一电解抛光、磁力一电解抛光等多种复合抛光技术.为适应现代工业对抛光技术进展的需要,对几种复合抛光方法的原理、特点以及应用范围进行了叙述和总结.
抛光技术、CMP技术、电解复合抛光技术
TG580.68;TG748(金属切削加工及机床)
2008-09-23(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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