10.3969/j.issn.1003-5311.2008.06.030
在钛酸锶钡体材上溅射厚铜膜工艺
采用磁控溅射的方法在钛酸锶钡材料上涂覆金属铜膜.通过试验确定了钛酸锶钡电光材料进行溅射镀厚膜时的工艺参数,并对膜层的表面质量、附着性能和膜均匀性的影响进行了分析,指出了获得优良的厚铜膜层的实现途径和方法.
钛酸锶钡、磁控溅射、厚铜膜
TB43(工业通用技术与设备)
2008-09-01(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共3页
78-80
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10.3969/j.issn.1003-5311.2008.06.030
钛酸锶钡、磁控溅射、厚铜膜
TB43(工业通用技术与设备)
2008-09-01(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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