高纯电子铝箔在HCl-H2C2O4中的电解腐蚀行为

摘要：

在HCl-H2C2O4中电解高纯低压电子铝箔,控制合适的电解温度、[Cl-]含量、[Al3+]/[H+]比值及一定的腐蚀电量,可获得较高质量的电解电容器用电极箔.

关键词：低压铝箔、H2C2O4、电解腐蚀

分类号：TQ15

在线出版日期：2004-12-23（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：48-50