10.3969/j.issn.1003-5311.2001.01.006
电化学抛光用于光刻工艺的研究
研究了光化学蚀刻与电化学抛光相结合的加工工艺,讨论了加工过程中各种因素对加工的影响及加工工艺的适用场合。试验结果表明电流密度、加工时间是控制加工深度的关键因数;抛光液温度对加工深度影响不明显,应控制在产生良好表面质量的范围内。
光化学蚀刻、电化学抛光、电解加工
TG66
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共2页
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10.3969/j.issn.1003-5311.2001.01.006
光化学蚀刻、电化学抛光、电解加工
TG66
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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