10.3969/j.issn.1003-5311.2000.01.020
高频低压等离子体浸没离子注入技术研究
利用低电压注入可以在相同的温度下较传统高压PIII获得更高的注入剂量率,同时在注入脉冲过程中形成较薄的离子阵鞘层,以利于提高注入剂量均匀性.低压与高频注入相配合可获得合适的处理温度和注入剂量率.研究结果表明,经高频低压PIII处理后的SS304样品硬度明显提高;氮元素内扩散可达1.5μm,表面氮浓度接近20%.
SS304、等离子体浸没离子注入、高频、低压
TG4(焊接、金属切割及金属粘接)
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共3页
40-42